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高溫加熱臺(tái)適用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化?？稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位進(jìn)行老化、溫度試驗(yàn)及干燥、烘焙和熱處理等作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用.

加熱臺(tái) 英文hot plate又稱烤膠機(jī)、烘膠機(jī)、熱板. 400度精密恒溫高溫加熱臺(tái)烤膠機(jī)(升級(jí)版):控溫范圍為室溫至400度

烤膠機(jī)適用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。

晶圓烤膠機(jī)英文hot plate又稱烤膠機(jī)、烘膠機(jī)、熱板. JW-350BP型加熱臺(tái)，控溫范圍為室溫至350度

加熱臺(tái) 英文hot plate又稱烤膠機(jī)、烘膠機(jī)、熱板. JW-400DG型加熱臺(tái)（不帶蓋），控溫范圍為室溫至400度

高溫加熱臺(tái)英文hot plate又稱烤膠機(jī)、烘膠機(jī)、熱板. JW-230ZK型加熱臺(tái)，可抽真空，充氮?dú)饧捌渌栊詺怏w控溫范圍為室溫至230度（可按需求訂制不同規(guī)格、溫度）